　連想ゲームみたいですが、ICカードの話をしたのでIC（集積回路）の製造方法について書いてみましょう。

　IC（LSIもですが）は、極小のパターンで電気回路が構成されています。その製造工程（プロセス）をざっくり説明すると以下のようになります。

・ベースとなるシリコンウェハースに薄膜をコーティングします。

・その上に感光剤（レジスト）を薄く塗ります。

・パターンを印刷したマスクを通して、光（紫外線）をあてます。

・現像液を付けると、光が当たった（露光した）部分の薄膜が溶けてパターンを形成します。

・後処理を行い、レジストを剥がします。

　こうしたプロセスを「フォトレジスト」と呼びます。若い人は知らないかもしれませんが、ある年代以上であれば、これがいわゆる「日光写真」と同じだと気が付くでしょう。原理的には同じですね。マスクして隠している部分は光に当たらないので感光せず、そのまま残るのです。

　フォトレジストはICだけでなく、微細加工が必要な場合に用いられる一般的な方法です。たとえば、バイオ分野では、大腸菌を観測するために、シリコンの代わりに寒天にフォトレジストでパターンを作る、なんてことも行われています。

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